產品介紹

產品定位
SL200L+型接觸角測定儀是一款專為液晶、晶圓、半導體、硅片及光刻膠等精密材料表面清潔度與潤濕性分析設計的設備。基于大移動平臺與模塊化設計理念，該設備支持自動進液、動態接觸角及界面張力測試，為工業質檢與研發提供精準數據支持。

核心技術優勢

1. 大移動平臺設計：

   • 適配大尺寸樣品（如PCB板、IPAD顯示屏、觸摸屏）的清潔度與接觸角測量。

   • 支持液晶、晶圓、半導體等精密材料的表面潤濕性評估。

2. 高精度光學系統：

   • 工業級輪廓鏡頭：成像清晰，確保液滴輪廓精準識別。

   • 石英玻璃柔光光源：均勻背景照明，提升圖像對比度。

3. 智能化軟件系統（CAST™3.0）：

   • 動態接觸角分析：支持前進/后退角、滾動角及時間依賴性接觸角測量。

   • 表面自由能計算：分析色散力、極性力、氫鍵力等分量，評估材料表面特性。

   • 液-氣/液-液界面張力測試：基于懸滴法（Pendant Drop）實現精準測量。

4. 自動進液系統：

   • 高精度液滴控制，適配微量樣品測試，減少試劑消耗。

行業痛點解決方案

• 表面清潔度檢測：通過接觸角與界面張力測試，快速評估液晶、晶圓、半導體等材料的表面污染物殘留。

• 光刻膠潤濕性分析：優化光刻工藝中的涂布均勻性與附著力，提升制造良率。

應用領域

• 液晶顯示：評估屏幕表面清潔度與涂層潤濕性。

• 半導體制造：晶圓、硅片表面污染物檢測與潤濕性分析。

• 光刻膠研發：優化光刻膠涂布性能，提升工藝穩定性。

• 觸摸屏質檢：表面清潔度與涂層附著力評估。

技術優勢

• 高精度控制：微米級定位精度，減少機械振動干擾。

• 模塊化設計：支持功能擴展，適配多樣化測試需求。

• 操作友好性：向導式軟件界面結合一鍵操作功能，降低使用門檻。

服務支持
提供專業的技術服務與定制化方案，確保設備在研發及品質控制中的高效應用。

SL200L系列接觸角測定儀產品特點與優勢

行業痛點解決方案

1. 頂視3D接觸角功能：

   • 用于評估液晶、晶圓、半導體等高精密材料表面結構與化學多樣性對潤濕性的影響，解決傳統方法無法精準分析微觀粗糙表面及復雜化學組成的難題。

2. 力學鉑金板表面張力測試：

   • 通過高精度力學鉑金板法檢測硅片、光刻膠表面的有機污染物殘留，解決制造過程中污染物快速篩查的行業痛點。

核心技術與配置

1. 高精度控制系統

• 交叉線性導軌技術：

  • 手動控制精度0.01mm，軟件控制精度0.5μm，確保晶圓、半導體等精密樣品的穩定測量。

• 9維機械結構設計：

  • 2XYZ+3水平調整系統，協調樣品臺、相機、進樣系統運作，適配大尺寸顯示屏（如IPAD、觸摸屏）測試。

• 納升級注射泵系統：

  • 液滴控制精度達0.02μL（可擴展至nL級），滿足光刻膠微量涂布測試需求。

2. 專業化光學成像系統

• 高景深工業鏡頭（0.35-4.5X放大倍率）：

  • 清晰捕捉液晶、硅片表面的微觀液滴形態，支持曲面校正技術分析凹凸面接觸角。

• 高速攝像系統：

  • 德國原裝87幀/秒相機（可升級至1000幀/秒），動態記錄光刻膠潤濕過程。

• 可調LED冷光源：

  • 避免液滴揮發干擾，確保光敏材料（如光刻膠）測試穩定性。

3. 智能化分析軟件（CAST™2.0）

• 動態接觸角分析：

  • 支持前進/后退角、滾動角及時間依賴性接觸角測量，適配半導體表面污染物動態吸附研究。

• 表面自由能模型：

  • 12種算法（如Acid-base法）分析色散力、極性力，評估材料表面清潔度與涂層兼容性。

• 液-液界面張力測試：

  • 基于Young-Laplace方程擬合，支持光刻膠與顯影液的界面行為分析。

4. 擴展功能與兼容性

• 模塊化進樣系統：

  • 兼容PTFE針管、細針管，適配高粘度光刻膠及疏水材料測試。

• 標準化視頻模式：

  • 支持多品牌主機升級，數據可導出為Excel/BMP格式，滿足科研論文與工業報告需求。

• 抗靜電設計：

  • 離子風技術消除晶圓、半導體測試中的靜電干擾，提升測值準確性。

應用場景

• 液晶顯示行業：屏幕表面清潔度與涂層潤濕性檢測。

• 半導體制造：晶圓/硅片污染物篩查、光刻膠涂布均勻性評估。

• 觸摸屏質檢：表面附著力與清潔度分析。

• 光刻膠研發：優化配方潤濕性能，提升工藝良率。

技術優勢

• 精準適配高精密材料：專為微電子行業設計，解決表面結構復雜、污染物難檢測的痛點。

• 全流程自動化：一鍵完成圖像捕獲、計算與數據保存，減少人為誤差。

• 抗干擾設計：多層水平調整系統結合防靜電技術，確保特殊環境下的測試穩定性。

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技術參數

以下標注“*”的為各型號主要區別之處。

CAST^®、阿莎^®、ADSA^®、TrueDrop^®、RealDrop^®、TheDrop^®、MicroDrop^®、LMCA^®、Shsolon^®、梭倫^®為上海梭倫注冊商標。

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